Influence of screen height and bias voltage on the active screen plasma nitriding of shot-peened Ti-6Al-4V titanium alloy

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标题	Influence of screen height and bias voltage on the active screen plasma nitriding of shot-peened Ti-6Al-4V titanium alloy 屏高和偏压对喷丸Ti-6Al-4V钛合金活性屏等离子渗氮的影响相关领域渗氮材料科学冶金氮化物合金钛图层（电子）溅射喷丸喷丸复合材料薄膜残余应力纳米技术
网址	https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2024.130381
DOI	10.1016/j.surfcoat.2024.130381 doi
其它	期刊：Surface and Coatings Technology 作者：Chengwei Zhang; Kai Wen; Yan Gao 出版日期：2024-01-08
求助人	无情修杰在 2025-06-09 18:32:01 发布，悬赏 10 积分
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