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标题
The analysis of carbon bonding environment in HWCVD deposited a-SiC:H films by XPS and Raman spectroscopy
HWCVD沉积a-SiC：H薄膜中碳键合环境的XPS和Raman光谱分析
相关领域
材料科学 拉曼光谱 X射线光电子能谱 碳纤维 钻石 半最大全宽 硅 带隙 类金刚石碳 分析化学（期刊） 光谱学 化学气相沉积 薄膜 纳米技术 光电子学 光学 化学工程 化学 复合材料 有机化学 物理 工程类 复合数 量子力学
网址
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2006.02.029
DOI
10.1016/j.surfcoat.2006.02.029 doi
其它 期刊：Surface and Coatings Technology
作者：Bibhu P. Swain
出版日期：2006-03-08
求助人
hh 在 2025-06-11 00:37:39 发布自湖北，悬赏 10 积分
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