A Photoinitiator-Grafted Photoresist for Direct In Situ Lithography of Perovskite Quantum Dots

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标题	A Photoinitiator-Grafted Photoresist for Direct In Situ Lithography of Perovskite Quantum Dots 用于钙钛矿量子点直接原位光刻的光引发剂接枝光刻胶相关领域光刻胶光引发剂平版印刷术原位材料科学钙钛矿（结构）量子点光电子学纳米技术复合材料化学聚合物结晶学单体有机化学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1021/acsanm.3c06297
DOI	10.1021/acsanm.3c06297 doi
其它	期刊：ACS applied nano materials 作者：Su‐Huai Wei; Jingrun Yuan; Gaoling Yang; Haizheng Zhong; Yuping Dong; et al 出版日期：2024-04-02
求助人	无情的沛白在 2024-04-26 16:04:59 发布自河南，悬赏 10 积分
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