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Synthesis of vertically aligned wafer-scale tantalum disulfide using high-Ar/H2S ratio plasma
用高Ar/H2S比等离子体合成垂直排列的二硫化钽
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期刊:Nanotechnology 作者:Hyunho Seok; Inkoo Lee; Jinill Cho; Dong Jun Sung; In‐Keun Baek; et al 出版日期:2021-10-22 |
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