Determination of proximity effect parameters by means of CD-linearity in sub 100 nm electron beam lithography

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标题	Determination of proximity effect parameters by means of CD-linearity in sub 100 nm electron beam lithography
网址	https://doi.org/10.1016/j.mee.2008.12.053
DOI	10.1016/j.mee.2008.12.053 doi
其它	期刊：Microelectronic Engineering 作者：M. Hauptmann; K.-H. Choi; P. Jaschinsky; C. Hohle; J. Kretz; L.M. Eng 出版日期：2009
求助人	柏不斜在 2026-05-31 23:17:41 发布自北京，悬赏 10 积分
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