Improving silicon-photonics inverse-design printability by leveraging SEM contours for advanced Optical Proximity Correction techniques

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标题	Improving silicon-photonics inverse-design printability by leveraging SEM contours for advanced Optical Proximity Correction techniques 相关领域可制造性设计硅光子学光子学计算机科学硅纳米光子学光学接近校正波导管电子工程平版印刷术工程类材料科学光电子学机械工程
网址	https://doi.org/10.1117/12.2609092
DOI	10.1117/12.2609092 doi
其它	期刊：作者：Youssef Drissi; Werner Gillijns; S. Lardenois; Peter Verheyen; Guy Lepage; et al 出版日期：2022-03-05
求助人	LW97 在 2023-05-04 21:17:33 发布自上海，悬赏 10 积分
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