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 Adhesion and removal behavior of nanoscale bubble on resist film surface for immersion lithography 浸没光刻中纳米气泡在抗蚀膜表面的粘附与去除行为
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期刊：Proceedings of SPIE 作者：Maki Kawai; Atsushi Ishikawa; Takayoshi Niiyama; Masahiko Harumoto; Osamu Tamada; et al 出版日期：2005-05-04 |
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