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Effect of fluorine on boron diffusion in thin silicon dioxides and oxynitride
氟对硼在二氧化硅和氮氧化物中扩散的影响
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期刊:Journal of Applied Physics 作者:Takayuki Aoyama; Kunihiro Suzuki; Hiroko Tashiro; Y. Toda; Tatsuya Yamazaki; et al 出版日期:1995-01-01 |
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