Reactive force-field molecular dynamics simulation for the surface reaction of SiH (x = 2–4) species on Si(1 0 0)-(2 × 1):H surfaces in chemical vapor deposition processes

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标题	Reactive force-field molecular dynamics simulation for the surface reaction of SiH (x = 2–4) species on Si(1 0 0)-(2 × 1):H surfaces in chemical vapor deposition processes
网址	https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S092702562...
DOI	10.1016/j.commatsci.2022.111193 doi
其它	期刊：Computational Materials Science 作者：Naoya Uene; Takuya Mabuchi; Masaru Zaitsu; Shigeo Yasuhara; Takashi Tokumasu 出版日期：2022-01-12
求助人	任性的梦桃在 2026-04-24 04:21:49 发布自美国，悬赏 10 积分
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