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Understanding the Effect of Oxygen Content on Ferroelectric Properties of Al-Doped HfO Thin Films
氧含量对掺铝HfO薄膜铁电性能的影响
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期刊:IEEE Electron Device Letters 作者:Zhenhai Li; Tianyu Wang; Yongkai Liu; Jiajie Yu; Jialin Meng; et al 出版日期:2023-01-01 |
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