A high-speed exposure method for digital micromirror device based scanning maskless lithography system

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标题	A high-speed exposure method for digital micromirror device based scanning maskless lithography system 相关领域无光罩微影数字微镜装置平版印刷术过程（计算）材料科学计算机科学数字光处理计算机硬件光学电子束光刻光电子学人工智能纳米技术抵抗物理图层（电子）投影机操作系统
网址	https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S003040261...
DOI	10.1016/j.ijleo.2019.04.009 doi
其它	期刊：Optik 作者：Chao Peng; Zezhou Zhang; Jianxiao Zou; Wenming Chi 出版日期：2019-04-02
求助人	li 在 2025-10-22 13:43:00 发布自山东，悬赏 10 积分
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