标题 |
Improvement of PrIZO Thin Films by O$_{\text{2}}$ Plasma Treatment Combined With Low-Temperature Annealing for Thin-Film Transistors
O$_{\text{2}}$等离子体处理结合薄膜晶体管低温退火改善PrIZO薄膜
相关领域
薄膜晶体管
材料科学
薄膜
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期刊:IEEE Transactions on Electron Devices 作者:Wenxin Zou; Zhihao Liang; Xiaonan Fu; Honglong Ning; Xuan Zeng; et al 出版日期:2023-01-01 |
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