标题 |
Crystal phase control of copper oxide thin films by process pressure during high power impulse magnetron sputtering
高功率脉冲磁控溅射过程中工艺压力对氧化铜薄膜晶相的控制
相关领域
高功率脉冲磁控溅射
材料科学
铜
溅射沉积
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期刊:Journal of science. Advanced materials and devices/Journal of science. Advanced materials and devices (Print) 作者:Ming-Jie Zhao; Jie Huang; Haicheng Li; Qi-Zhen Chen; Qi-Hui Huang; et al 出版日期:2024-01-01 |
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