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 An XPS study of the Ar+-induced reduction of Ni2+ in NiO and Ni-Si oxide systems NiO和Ni-Si氧化物体系中Ar~+还原Ni2+的XPS研究
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期刊：Applied Surface Science 作者：Agustín R. González‐Elipe; Rafael Álvarez; Juan P. Holgado; J.P. Espinós; G. Munuera; et al 出版日期：1991-07-01 |
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