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 Development of an inorganic photoresist for DUV, EUV, and electron beam imaging 用于DUV、EUV和电子束成像的无机光刻胶的研制
相关领域
抵抗
光刻胶
材料科学
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光刻
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纳米颗粒
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光学
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复合材料
物理
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期刊：Proceedings of SPIE 作者：Markos Trikeriotis; Woo Jin Bae; Eric M. Schwartz; Marie Krysak; Neal Lafferty; et al 出版日期：2010-03-11 |
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