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 Optimization of photoelectric properties and temporal stability of AZO/Ti/Cu/AZO films by insertion of Ti layer for low emissivity applications 嵌入Ti层优化AZO/Ti/Cu/AZO薄膜的光电性能和时间稳定性
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期刊：Materials Science and Engineering: B 作者：Dong Zhang; Kai Sun; Hongfeng Yin; Lulu Cheng; Hudie Yuan; et al 出版日期：2023-07-01 |
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