| 标题 |
 Implementing Remote Doping and Suppressed Scattering in MoS₂ Field-Effect Transistor Using CMOS-Compatible Process 使用CMOS兼容工艺在MoS₂场效应晶体管中实现远程掺杂和抑制散射
相关领域
CMOS芯片
兴奋剂
晶体管
场效应晶体管
光电子学
散射
材料科学
MOSFET
过程（计算）
电子工程
电气工程
计算机科学
工程类
物理
电压
光学
操作系统
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：IEEE Transactions on Electron Devices 作者：Weiming Ma; Tianjiao Zhang; Jiayang Hu; Yu Kang; Hanxi Li; et al 出版日期：2024-04-10 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
昏睡的蟠桃
cdercder
bc
卡卡西
大腚疯猪
jenningseastera
诸葛御风
冰魂
期待未来的自己
yizhouchang
子车茗
科研助手6
iNk
椰子在长江送礼物
Eve丶Paopaoxuan
HEIKU
kingwill
pluto
VDC
SYLH
皖公网安备34019202002308
