Development and evaluation of interface-stabilized and reactive-sputtered oxide-capped multilayers for EUV lithography

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标题	Development and evaluation of interface-stabilized and reactive-sputtered oxide-capped multilayers for EUV lithography 用于EUV光刻的界面稳定和反应溅射氧化物覆盖多层膜的开发和评价相关领域极紫外光刻材料科学溅射退火（玻璃）平版印刷术溅射沉积光电子学涂层氧化物光学涂层光学薄膜纳米技术复合材料冶金物理
网址	https://doi.org/10.1117/12.2085934
DOI	10.1117/12.2085934 doi
其它	期刊：SPIE Proceedings 作者：Michael Kriese; Yuriy Platonov; Jim Rodriguez; Gary Fournier; Steven Grantham; et al 出版日期：2015-03-17
求助人	Heidi 在 2025-02-14 11:13:14 发布自美国，悬赏 20 积分
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