| 标题 |
 Khokhar MQ, Chowdhury S, Pham DP, Hussain SQ, Cho E-C, Yi J. Improving passivation properties using a nano-crystalline silicon oxide layer for highefficiency TOPCon cells. Infrared Phys Technol 2021;115:103723. https://doi.org/ 10.1016/j.infrared.2021.103723 Khokhar MQ，Chowdhury S，Pham DP，Hussain SQ，Cho E-C，Yi J。使用纳米晶体氧化硅层改善高效拓普康电池的钝化性能。红外物理技术2021；115：103723。https://doi.org/10.1016/j.infrared.2021.103723
相关领域
钝化
材料科学
退火（玻璃）
硅
纳米晶材料
光电子学
晶体硅
氧化物
氧化硅
太阳能电池
载流子寿命
图层（电子）
纳米技术
复合材料
氮化硅
冶金
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| DOI |
10.1016/j.infrared.2021.103723
doi
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| 其它 |
Khokhar MQ, Chowdhury S, Pham DP, Hussain SQ, Cho E-C, Yi J. Khokhar MQ, Chowdhury S, Pham DP, Hussain SQ, Cho E-C, Yi J. Improving passivation properties using a nano-crystalline silicon oxide layer for highefficiency TOPCon cells. Infrared Phys Technol 2021;115:103723. https://doi.org/ 10.1016/j.infrared.2021.103723 |
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