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Organosilicon films deposited in low-pressure plasma from hexamethyldisiloxane — A review
六甲基二硅氧烷低压等离子体沉积有机硅薄膜的研究进展
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期刊:Vacuum 作者:Amanda S.M. de Freitas; Cristiane C. Maciel; Jéssica S. Rodrigues; Rafael P. Ribeiro; Adriana O. Delgado-Silva; Elidiane C. Rangel 出版日期:2021-08-27 |
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