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 High-quality transparent conductive indium oxide film deposition by reactive pulsed magnetron sputtering: Determining the limits of substrate heating 用反应脉冲磁控溅射沉积高质量透明导电氧化铟膜：确定衬底加热极限
相关领域
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材料科学
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期刊：Applied Surface Science 作者：Shuai Guo; Wahyu Diyatmika; Yeliz Unutulmazsoy; Lei Yang; Bing Dai; et al 出版日期：2022-05-01 |
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