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 Investigation of SiO2 plasma enhanced chemical vapor deposition through tetraethoxysilane using attenuated total reflection Fourier transform infrared spectroscopy 衰减全反射傅里叶变换红外光谱研究四乙氧基硅烷等离子体增强化学气相沉积SiO2
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 作者：Shashank C. Deshmukh; Eray S. Aydil 出版日期：2002-07-27 |
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