Argon plasma inductively coupled plasma reactive ion etching study for smooth sidewall thin film lithium niobate waveguide application

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标题	Argon plasma inductively coupled plasma reactive ion etching study for smooth sidewall thin film lithium niobate waveguide application 氩等离子体电感耦合等离子体反应离子刻蚀用于铌酸锂光滑侧壁薄膜波导的研究相关领域铌酸锂材料科学薄脆饼薄膜感应耦合等离子体制作光电子学反应离子刻蚀蚀刻（微加工）波导管等离子体刻蚀光子学等离子体光学纳米技术替代医学图层（电子）病理物理医学量子力学
网址	https://doi.org/10.1016/j.optmat.2015.12.040
DOI	10.1016/j.optmat.2015.12.040 doi
其它	期刊：Optical Materials 作者：Gwenn Ulliac; Venancio Calero; Abdoulaye Ndao; Fadi Baida; Maria–Pilar Bernal 出版日期：2016-03-01
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