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标题
Effect of mechanical stress on the traps in silicon nitride thin films
机械应力对氮化硅薄膜中陷阱的影响
相关领域
材料科学 等离子体增强化学气相沉积 氮化硅 极限抗拉强度 复合材料 沉积(地质) 压力(语言学) 分析化学(期刊) 抗压强度 薄膜 氮化物 光电子学 纳米技术 化学 生物 哲学 古生物学 色谱法 语言学 沉积物 图层(电子)
网址
DOI
10.1016/j.cap.2023.10.014 doi
其它 期刊:Current Applied Physics
作者:Honggyun Kim; Jamal Aziz; Vijay D. Chavan; Deok-kee Kim
出版日期:2023-11-06
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小林子 在 2025-06-19 14:18:17 发布自江苏,悬赏 10 积分
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