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标题
Analysis of laser ablation process in semiconductor due to ultrashort-pulsed laser with molecular dynamics simulation
半导体超短脉冲激光烧蚀过程的分子动力学分析
相关领域
材料科学 激光器 蒸发 冲击波 激光烧蚀 衰减系数 超短脉冲 惯性约束聚变 超快激光光谱学 光学 吸收(声学) 热传导 休克(循环) 融合 辐照 半导体 烧蚀 光电子学 物理 复合材料 航空航天工程 哲学 核物理学 工程类 内科学 热力学 医学 语言学
网址
DOI
10.1117/12.387594 doi
其它 期刊:Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE
作者:Kôji Watanabe; Yuri Ishizaka; Etsuji Ohmura; Isamu Miyamoto
出版日期:2000-06-07
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优美亦云 在 2025-03-24 21:19:54 发布自山东,悬赏 20 积分
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