Atomic Layer Deposition of Wet-Etch Resistant Silicon Nitride Using Di(sec-butylamino)silane and N2Plasma on Planar and 3D Substrate Topographies

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标题	Atomic Layer Deposition of Wet-Etch Resistant Silicon Nitride Using Di(sec-butylamino)silane and N2Plasma on Planar and 3D Substrate Topographies
网址	https://doi.org/10.1021/acsami.6b12267
DOI	10.1021/acsami.6b12267 doi
其它	期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Tahsin Faraz; Maarten van Drunen; Harm C. M. Knoops; Anupama Mallikarjunan; Iain Buchanan; et al 出版日期：2017
求助人	刻苦的安阳在 2026-05-18 14:51:06 发布自安徽，悬赏 10 积分
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