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标题
Composition of trench sidewalls and bottoms for SiO2-masked Si(100) etched in Cl2 plasmas
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网址
https://doi.org/10.1063/1.373547
DOI
10.1063/1.373547 doi
其它 期刊：Journal of Applied Physics
作者：K. H. A. Bogart; Vincent M. Donnelly
出版日期：2000-06-15
求助人
wangcw 在 2026-01-29 10:42:41 发布自山东，悬赏 10 积分
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