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 Influence of ion assistance on optical properties, residual stress and laser induced damage threshold of HfO2 thin film by use of different ion sources 不同离子源离子辅助对HfO2薄膜光学性能、残余应力和激光损伤阈值的影响
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期刊： 作者：Feng Pan; Jian Wang; Mincai Liu; Yaowei Wei; Zhichao Liu; et al 出版日期：2019-11-15 |
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