Effect of electrode spacing on the density distributions of electrons, ions, and metastable and radical molecules in SiH4/NH3/N2/He capacitively coupled plasmas

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标题	Effect of electrode spacing on the density distributions of electrons, ions, and metastable and radical molecules in SiH4/NH3/N2/He capacitively coupled plasmas 电极间距对SiH4/NH3/N2/He电容耦合等离子体中电子、离子、亚稳态分子和自由基分子密度分布的影响相关领域电极离子化学分析化学（期刊）沉积（地质）原子物理学容性耦合等离子体电子密度等离子体材料科学生物感应耦合等离子体沉积物物理量子力学物理化学古生物学有机化学色谱法
网址	https://doi.org/10.1063/1.4927531
DOI	10.1063/1.4927531 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：Ho Jun Kim; Won-Kyun Yang; Ji Bong Joo 出版日期：2015-07-28
求助人	小小王在 2024-02-05 17:30:00 发布自陕西，悬赏 10 积分
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