Effect and mechanism analysis of sarcosine on the chemical mechanical polishing performance of copper film for GLSI

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标题	Effect and mechanism analysis of sarcosine on the chemical mechanical polishing performance of copper film for GLSI 肌氨酸对GLSI用铜膜化学机械抛光性能的影响及机理分析相关领域化学机械平面化材料科学抛光薄脆饼 X射线光电子能谱铜试剂铜互连化学工程各向同性腐蚀扫描电子显微镜吸附蚀刻（微加工）纳米技术复合材料冶金化学图层（电子）有机化学工程类
网址	https://doi.org/10.1016/j.mssp.2022.107003
DOI	10.1016/j.mssp.2022.107003 doi
其它	期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Yinchan Zhang; Xinhuan Niu; Jiakai Zhou; Jianchao Wang; Yebo Zhu; et al 出版日期：2022-11-01
求助人	小詹要努力变强在 2024-04-26 13:41:27 发布自上海，悬赏 10 积分
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