Thermal stability of copper nitride films prepared by rf magnetron sputtering

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标题	Thermal stability of copper nitride films prepared by rf magnetron sputtering 射频磁控溅射氮化铜薄膜的热稳定性相关领域 X射线光电子能谱分析化学（期刊）材料科学溅射沉积氮化物溅射热稳定性粒度薄膜铜基质（水族馆）体积分数化学工程化学冶金纳米技术复合材料图层（电子）工程类地质学海洋学色谱法
网址	https://doi.org/10.1016/s0040-6090(98)00448-9
DOI	10.1016/s0040-6090(98)00448-9 doi
其它	期刊：Thin solid films 作者：Z.Q Liu; W.J Wang; T.M Wang; Sheng D. Chao; Shuilin Zheng 出版日期：1998-07-01
求助人	年少轻狂最情深在 2024-04-25 18:20:26 发布自陕西，悬赏 10 积分
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