The mask error factor in optical lithography

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标题	The mask error factor in optical lithography 光学光刻中的掩模误差因素相关领域临界尺寸平版印刷术光掩模进程窗口线条宽度焦点深度（构造）光学光刻直线（几何图形）光学接近校正光学（聚焦）图像质量抵抗工艺变化维数（图论）计算机科学镜头（地质）制作材料科学过程（计算）物理人工智能图像（数学）数学纳米技术几何学病理古生物学操作系统生物构造学纯数学替代医学医学俯冲图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1109/66.843639
DOI	10.1109/66.843639 doi
其它	期刊：IEEE transactions on semiconductor manufacturing 作者：Alfred K. K. Wong; Richard A. Ferguson; Scott Mansfield 出版日期：2000-05-01
求助人	咚咚锵在 2024-04-19 16:37:33 发布，悬赏 10 积分
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