| 标题 |
 Understanding short channel mobility degradation by accurate external resistance decomposition and intrinsic mobility extraction 通过精确的外部电阻分解和本征迁移率提取理解短沟道迁移率退化
相关领域
电子迁移率
材料科学
兴奋剂
光电子学
降级（电信）
散射
MOSFET
频道（广播）
光环
库仑
凝聚态物理
分析化学（期刊）
电子工程
化学
电气工程
晶体管
光学
物理
电压
工程类
电子
银河系
量子力学
色谱法
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Applied Physics 作者：Tao Chu; Reinaldo A. Vega; Emre Alptekin; Dechao Guo; Huiling Shang 出版日期：2015-02-14 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
cdercder
bc
Oracle
pluto
笨笨芯
平常的毛豆
昏睡的蟠桃
iNk
我剑也未尝不利
qiao
xiahou
余味
归尘
back you up
高大凌寒
研友_Y59785
pcr163
wy.he
冰魂
善良的剑通
皖公网安备34019202002308
