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Strategies for dislocation density reduction in CdTe epilayers grown directly on (211) Si substrates using MOVPE
利用MOVPE直接在（211）Si衬底上生长CdTe外延层中位错密度降低策略
相关领域
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网址
https://doi.org/10.1007/s10854-023-11842-4
DOI
10.1007/s10854-023-11842-4 doi
其它 期刊：Journal of Materials Science Materials in Electronics
作者：M. Niraula; B. S. Chaudhari; R. Okumura; Yuki Takagi
出版日期：2023-12-26
求助人
英俊的铭 在 2025-08-26 07:35:55 发布，悬赏 10 积分
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