Engineering of atomic layer deposition process for titanium-aluminum-oxide based resistively switching medium

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标题	Engineering of atomic layer deposition process for titanium-aluminum-oxide based resistively switching medium 钛铝氧化物基电阻开关介质原子层沉积工艺的工程化相关领域材料科学原子层沉积金红石铝图层（电子）氧化铝钛电极沉积（地质）薄膜电介质氧化物光电子学纳米技术化学工程复合材料冶金化学古生物学沉积物工程类物理化学生物
网址	https://doi.org/10.1016/j.mseb.2022.115797
DOI	10.1016/j.mseb.2022.115797 doi
其它	期刊：Materials Science and Engineering B 作者：Joonas Merisalu; Tõnis Arroval; Aarne Kasikov; Jekaterina Kozlova; Mihkel Rähn; et al 出版日期：2022-06-01
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