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Enhanced Damage Resistance of Mo/Si Multilayer Mirror with Carbon Barrier Layers under Intense Nanosecond EUV Irradiation 具有碳阻挡层的Mo/Si多层反射镜在强纳秒EUV辐照下的抗损伤性能
相关领域
极紫外光刻
辐照
材料科学
纳秒
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纳米技术
光学
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复合材料
物理
复合数
核物理学
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| 其它 |
期刊:Nano Letters 作者:Cheolmin Yun; Shuhui Li; Youfan Hu; Xiangyue Liu; Zebing Hu; et al 出版日期:2025-04-17 |
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