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标题
Atomically precise deposition of (Er0.1Y0.9)2SiO5 combined with digitally processed DC sputtering and non-radical oxidation
（Er0.1Y 0.9）2SiO5的原子级精确沉积结合数字处理直流溅射和非自由基氧化
相关领域
光致发光 材料科学 结晶度 溅射 结晶 沉积（地质） 图层（电子） 外延 光电子学 单斜晶系 薄膜 光子学 化学工程 纳米技术 结晶学 化学 晶体结构 复合材料 地质学 沉积物 工程类 古生物学
网址
https://doi.org/10.1116/6.0001917
AI链接 scitation.orgdoi.org
DOI
10.1116/6.0001917 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films
作者：Ghent Nakamura; Hideo Isshiki
出版日期：2022-09-01
求助人
胖鱼 在 2025-06-01 02:17:06 发布，悬赏 10 积分
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