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Analysis of the negative charges injected into a SiO2/SiNx stack using plasma charging technology for field‐effect passivation on a boron‐doped silicon surface
用等离子体充电技术对掺硼硅表面场效应钝化SiO2/SiNx堆叠中的负电荷的分析
相关领域
钝化 材料科学 硅 共发射极 饱和电流 光电子学 等离子体 电荷密度 兴奋剂 硼 等离子体增强化学气相沉积 分析化学（期刊） 化学 图层（电子） 电气工程 纳米技术 电压 物理 有机化学 工程类 色谱法 量子力学
网址
https://doi.org/10.1002/pip.3340
AI链接 osti.govdoi.org
DOI
10.1002/pip.3340 doi
其它 期刊：Progress in Photovoltaics Research and Applications
作者：Kwan Hong Min; Jeong‐Mo Hwang; Eunwan Cho; Hee‐eun Song; Sungeun Park; et al
出版日期：2020-10-04
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雪白一曲 在 2025-08-18 16:14:57 发布，悬赏 10 积分
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