Atomic diffusion and microstructural evolution at the Nb/TiAl heterogenous interfaces during annealing at elevated temperatures

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标题	Atomic diffusion and microstructural evolution at the Nb/TiAl heterogenous interfaces during annealing at elevated temperatures 高温退火过程中Nb/TiAl非均相界面的原子扩散和微观结构演变相关领域退火（玻璃）材料科学原子扩散结晶学格子（音乐）晶格扩散系数扩散空位缺陷化学物理冶金热力学化学有效扩散系数物理放射科磁共振成像医学声学
网址	https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2023.171286
DOI	10.1016/j.jallcom.2023.171286 doi
其它	期刊：Journal of Alloys and Compounds 作者：Jingyuan Shen; Yu Sun; Cheng Ji Deng; Xiaoqiang Li; Xuewen Li 出版日期：2023-07-06
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