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Surface treatment effects on atomic diffusion in Si explained without self interstitials
无自间隙时表面处理对硅原子扩散的影响
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扩散 化学物理 硅 固体物理学 材料科学 原子扩散 凝聚态物理 蒙特卡罗方法 热的 表面扩散 自扩散 化学 结晶学 热力学 物理化学 物理 冶金 营销 吸附 业务 统计 数学 自助服务
网址
https://doi.org/10.1007/bf02657823
DOI
10.1007/bf02657823 doi
其它 期刊：Journal of Electronic Materials
作者：J. A. Van Vechten; U. Schmid; Q.-S Zhang
出版日期：1991-06-01
求助人
欢呼雍 在 2025-06-29 16:28:22 发布自宁夏，悬赏 10 积分
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