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 Reaction mechanisms for atomic layer deposition of aluminum oxide on semiconductor substrates 半导体衬底上氧化铝原子层沉积的反应机理
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Annelies Delabie; Sonja Sioncke; Jens Rip; Sven Van Elshocht; Geoffrey Pourtois; et al 出版日期：2011-12-02 |
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