标题 |
Atomic-scale surface of fused silica induced by chemical mechanical polishing with controlled size spherical ceria abrasives
可控粒径球形氧化铈磨料化学机械抛光熔融石英原子级表面
相关领域
材料科学
化学机械平面化
泥浆
抛光
表面粗糙度
X射线光电子能谱
纳米
脆性
表面光洁度
研磨
化学工程
复合材料
纳米技术
工程类
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其它 |
期刊:Journal of Manufacturing Processes 作者:Guoliang Xu; Zhenyu Zhang; Fanning Meng; Lu Liu; Dongdong Liu; et al 出版日期:2023-01-01 |
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