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![]() 用于绝缘体上无局域位错SiGe虚拟衬底制造的横向选择性SiGe生长
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材料科学
位错
基质(水族馆)
绝缘体上的硅
制作
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期刊:ECS Journal of Solid State Science and Technology 作者:Ketan Anand; Michael Schubert; Agnieszka Anna Corley‐Wiciak; Davide Spirito; Cedric Corley‐Wiciak; et al 出版日期:2023-01-30 |
求助人 |
feifei7525
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