| 标题 |
Low temperature SiOx thin film deposited by plasma enhanced atomic layer deposition for thin film encapsulation applications 相关领域
原子层沉积
材料科学
X射线光电子能谱
薄膜
硅
表面粗糙度
氧化硅
反射计
化学气相沉积
氧化物
等离子体增强化学气相沉积
分析化学(期刊)
化学工程
纳米技术
复合材料
光电子学
氮化硅
化学
冶金
工程类
时域
色谱法
计算机科学
计算机视觉
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者:Young-Soo Lee; Ju-Hwan Han; Jin‐Seong Park; Jozeph Park 出版日期:2017-06-14 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)