Latest ArF light source with speckle reduction technology for immersion lithography improving chip yield

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标题	Latest ArF light source with speckle reduction technology for immersion lithography improving chip yield 采用斑点减少技术的最新ArF光源，用于沉浸式印刷，提高芯片产量相关领域浸没式光刻极紫外光刻材料科学斑点图案激光线宽光学沉浸式（数学）平版印刷术覆盖光电子学抵抗激光器计算机科学纳米技术物理程序设计语言纯数学数学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1117/12.2583281
DOI	10.1117/12.2583281 doi
其它	期刊：作者：Hirotaka Miyamoto; Takamitsu Komaki; Toshihiro Ohga; Taku Yamazaki; Tsukasa Hori; et al 出版日期：2021-02-19
求助人	勤恳的仰在 2025-08-04 08:57:00 发布自广东，悬赏 20 积分
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