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Positive Bias Temperature Instability Saturation in Scaled Oxide Sub‐100 nm Lg Enhancement Mode High‐K Gallium Nitride Metal Oxide Semiconductor High Electron Mobility Transistors
标度氧化物亚100nm LG增强模式高K氮化镓金属氧化物半导体高电子迁移率晶体管的正偏压温度不稳定性饱和
网址
https://onlinelibrary.wiley.com/doi/pdf/10.1002/pssa.2025000...
DOI
10.1002/pssa.202500018 doi
其它 期刊：physica status solidi (a)
作者：Ahmad Zubair; Soumitra Joy; Samuel Bader; Jason Peck; Michael Beumer; et al
出版日期：2025-07-02
求助人
flystone 在 2025-09-25 08:07:53 发布自美国，悬赏 10 积分
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