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  O2 and Ar plasma processing over SiO2/Si stack: Effects of processing gas on interface defect generation and recovery SiO2/Si堆上O2和Ar等离子体处理：处理气体对界面缺陷产生和恢复的影响
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期刊：Journal of Applied Physics 作者：Shota Nunomura; Takayoshi Tsutsumi; Isao Sakata; Masaru Hori 出版日期：2024-02-02 |
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