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 Solid-Phase Lateral Epitaxial Growth onto Adjacent SiO2 Film from Amorphous Silicon Deposited on Single-Crystal Silicon Substrate 从沉积在单晶硅衬底上的非晶硅到相邻SiO2薄膜上的固相横向外延生长
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Y. Ohmura; Yasuo Matsushita; M. Kashiwagi 出版日期：1982-03-01 |
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