Solid-Phase Lateral Epitaxial Growth onto Adjacent SiO2 Film from Amorphous Silicon Deposited on Single-Crystal Silicon Substrate

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标题	Solid-Phase Lateral Epitaxial Growth onto Adjacent SiO2 Film from Amorphous Silicon Deposited on Single-Crystal Silicon Substrate 从沉积在单晶硅衬底上的非晶硅到相邻SiO2薄膜上的固相横向外延生长相关领域硅外延材料科学成核退火（玻璃）无定形固体非晶硅基质（水族馆）纳米晶硅晶体生长单晶硅单晶结晶学光电子学晶体硅纳米技术复合材料化学图层（电子）地质学有机化学海洋学
网址	https://doi.org/10.1143/jjap.21.l152
DOI	10.1143/jjap.21.l152 doi
其它	期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Y. Ohmura; Yasuo Matsushita; M. Kashiwagi 出版日期：1982-03-01
求助人	柠一在 2024-10-08 17:22:24 发布自浙江，悬赏 10 积分
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