Achieving Excellent Surface Passivation with J0,s Less Than 0.5 fA cm−2 Utilizing a Carbon‐Incorporated Intrinsic Polysilicon‐Based Tunnel Oxide Passivating Contact Structure

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标题	Achieving Excellent Surface Passivation with J0,s Less Than 0.5 fA cm−2 Utilizing a Carbon‐Incorporated Intrinsic Polysilicon‐Based Tunnel Oxide Passivating Contact Structure 利用掺入碳的本征多晶硅基隧道氧化物钝化接触结构实现J0，s小于0.5 fA cm-2的优异表面钝化
网址	https://onlinelibrary.wiley.com/doi/pdf/10.1002/smtd.2025003...
DOI	10.1002/smtd.202500380 doi
其它	期刊：Small Methods 作者：Hongkai Zhou; Zunke Liu; Zhenhai Yang; Ruoyi Wang; Xian Zhang; et al 出版日期：2025-06-06
求助人	zyyyyyu 在 2025-06-17 14:43:49 发布自江苏，悬赏 10 积分
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