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 Effect of plasma nitriding substrate current density on the adhesion strength of in situ PVD TiN coatings 等离子体氮化基体电流密度对原位PVD TiN涂层附着强度的影响
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Xin Zhang; Xiubo Tian; Chunzhi Gong; Xiangli Liu; Jin Li 出版日期：2023-04-07 |
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